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    华为新专利公布：入局光刻机

      [  中关村在线 原创  ]   作者：赵悟省

    近日，国家知识产权局公布了一项新的华为专利，专利名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”，编号是CN115343915A，此项专利与EUV光刻机有关，也引起了众多关注。

    华为新专利公布：入局光刻机

    此前华为自研芯片获得成功，不过高端芯片的量产在美国对华技术封锁的压力下停滞不前，麒麟9000也成为经典不再量产，华为入局光刻机可以说是一个好消息，猜测后续华为会推进处理器的研发和设计。

    麒麟9000芯片是华为于2020年10月22日20:00发布的基于5nm工艺制程的手机Soc，基于5nm工艺制程打造，集成多达153亿个晶体管，包括一个3.13GHz A77大核心、三个2.54GHz A77中核心、四个2.04GHz A55小核心。

    HUAWEI Mate 50 直屏旗舰 超光变XMAGE影像 北斗卫星消息 低电量应急模式 128GB曜金黑华为鸿蒙手机

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