苹果屏下Face ID专利曝光 挖孔屏或被抛弃

由于Face ID依赖于深感摄像头投射并分析大量点以精准捕捉人脸数据，当前技术尚无法将系统中的红外摄像头、点阵投影器等核心组件完全融入屏幕之下。因此，苹果目前只能采取妥协策略，使用药丸屏设计作为解决方案。

据媒体报道，苹果近期取得了一项关于屏下Face ID的专利，该专利成功攻克了屏下摄像头的技术瓶颈。

据了解，屏下Face ID首要攻克的是提升红外光透光率的难题。尽管红外光能够穿透显示屏，但其透射效率极低，若直接置于屏幕下方，将导致人脸识别速度大幅下降，且安全性和可靠性也会受到影响。

最新专利揭示，苹果通过移除部分子像素，使得红外光能够顺利穿透盖板，实现屏下人脸识别功能。

预计这一方案最早将于2026年的iPhone 18系列中得以应用，届时iPhone 18系列将采用单挖孔屏设计，告别现有的药丸屏形态。

本文属于原创文章，如若转载，请注明来源：苹果屏下Face ID专利曝光 挖孔屏或被抛弃https://mobile.zol.com.cn/939/9397784.html